v0.2.0 工作區與編輯更新
自訂工作區、大綱、專業文字成形、擴充向量工具，以及重新打造的預覽與影像工作流程。
Beam Bench v0.2.0是大幅更新的設計與執行工作流程。此版本新增可自訂的面板停駐區、專案大綱、一致的特性控制項、更強大的向量和文字工具，以及更新後的預覽、描摹影像和調整影像視窗。
重點
- 設計和執行會記住各自獨立的版面配置。可在停駐區之間移動分頁、將欄拆分為最多三個區段、浮動面板，或新增底部停駐區。
- 新的大綱會一併顯示圖層、群組和物件，讓你可以重新命名、重新排序、選取、隱藏、鎖定和移動專案內容。
- 文字現在支援點文字和文字框建立、原地編輯、路徑文字、RTL版面配置、焊接，以及彎曲、拱形、上升、波浪、旗幟、角度和圓形形狀。
- 節點編輯、修剪、標籤、即時偏移預覽、四點與十六點變形、測量、布林運算和物件變換，現在都使用情境式特性控制項。
- 線條圖層會以線框顯示；填色、偏移填色和影像圖層會使用圖層色彩填滿顯示，並可調整預覽不透明度。
- 預覽播放、移動和overscan顯示、影像描摹及點陣調整均已修正並重新設計。
- 所有更新後的介面和文件均提供所有支援的語言版本。
鎖定的物件受到編輯保護，但仍會包含在雷射工作中。若要排除圖稿，請隱藏物件或停用其圖層的輸出。
請從beambench.com下載此版本。執行工作前，請確認預覽，並在機器上框選工作區。